最近,世界領先的半導體制造設備和服務供應商泛林集團宣布,其自我維護設備為半導體行業工藝的生產率設定了新的基準。通過與領先半導體制造商的合作,泛林集團成功實現了刻蝕工藝平臺全年不間斷運行。
在今天的半導體工藝環境中,平均清洗間隔是限制刻蝕系統生產率提高的主要因素。為了保持穩定的性能,通常需要每月甚至每周清潔一次刻蝕處理室,并更換被等離子體處理腐蝕的部件。4月,2020,泛林集團及其客戶實現了一個雄心勃勃的目標,實現了設備連續運行365天,無需維護和清潔,創造了里程碑式的記錄。
泛林集團刻蝕產品業務部高級副總裁兼總經理瓦海德瓦赫迪說:“這一突破性的成就表明,泛林集團注重客戶合作,幫助客戶解決最具挑戰性的技術和生產力問題。泛林集團致力于提供符合工業4.0的技術,使芯片制造企業的生產過程更快、更準確、更高效。這個新的行業基準證明了自維護設備可以減少人工,提高生產效率。”
通常,刻蝕過程模塊需要定期維護和更換耗材。更換和清潔零件必須通過打開腔室來完成。關閉試驗箱時,需要重新驗證試驗箱環境,費時費力,不僅影響產量,還依賴于復雜的調度安排。通過自我維護解決方案,設備可以獨立決定更換零件的時間,并且可以在不打開腔室的情況下自動更換,從而減少設備的停機時間,提高工廠的生產效率。
泛林集團的這個創新解決方案包括Kiyo?過程模塊,通過真空傳輸可更換邊緣環的Corvus。r系統、使用壽命更長的腔室組件和優化的自動清洗技術,無需晶圓。其中,實現這種前所未有的生產力的關鍵在于Corvus R系統,這是業界第一個可以自動更換耗材的系統。長期以來,邊緣環腐蝕一直存在于刻蝕過程中,需要經常打開試驗箱更換零件。科爾維斯R不用打開密室就能自動更換新的邊緣環。