—— 華虹半導體有限公司(“華虹Semiconductor”或“Company”)作為全球領先的具有特色工藝的純晶圓代工企業,宣布其第三代90 nm嵌入式flash (90nm eFlash)工藝平臺已成功實現量產。
華虹半導體一直深入參與嵌入式非易失性存儲器技術領域。通過不斷的技術創新,第三代90納米嵌入式閃存技術平臺的閃存單元尺寸比第二代技術縮小了近40%,創下了全球晶圓代工廠90納米工藝節點嵌入式閃存技術最小尺寸的新紀錄。Flash IP具有更明顯的面積優勢,進一步縮小了整體芯片面積,從而在單個晶圓上獲得更多的裸芯片。同時,掩膜層的數量進一步減少,有效縮短了薄膜流延的周期。可靠性指數繼續保持高水平,達到100,000次擦除和25年的數據保留容量。近年來,華虹半導體在90納米工藝節點成功推出三代閃存技術平臺,在保持技術優勢的同時,不斷尋求性價比更高的解決方案。第三代工藝平臺的大規模穩定量產,為電信卡、Ukey卡、交通卡等智能卡和安全芯片產品,微控制器(MCU)等多元化產品提供持續穩定的支持和解決方案。
華虹半導體執行副總裁孔蔚然,博士表示:“華虹Semiconductor是嵌入式非易失性存儲器技術的領導者,未來面對高密度智能卡和高端微控制器市場,將繼續專注于R&D和200mm差異化技術的創新。同時,我們不斷致力于在功耗和面積方面提供顯著的優化,將現有的200mm到300mm的技術優勢延伸,更好地服務于國內外半導體芯片設計公司,滿足市場需求。”